Фотоэлектирическое сопротивление (фотоэлемент). Изготовлен в Институте физики АН УССР.

Период создания: 1960 г.

Локация: СССР Украинская ССР г. Киев

Музей: Федеральное государственное бюджетное учреждение культуры "Государственный центральный музей современной истории России" (ГЦМСИР)