Маска к фотошаблону

Маска к фотошаблону

Овальной формы

Период создания: 1900-1914 гг.

Локация: Германия

Музей: Федеральное государственное бюджетное учреждение культуры "Политехнический музей" (Политехнический музей)

Поделиться:

Комментарии

Пока нет комментариев. Будьте первым!

Добавить комментарий

Пожалуйста, напишите что-нибудь